上海微电子已经成功生产光刻机了么？这个领域国内是什么水平？

明年就能生产28纳米光刻机。如果顺利生产28纳米光刻机，中国百分之九十的芯片制造都可以自足。

7纳米5纳米只有用在高端手机上，电脑14纳米都算是非常先进，其他行业48纳米制成的芯片都已经是非常先进了。台积电三星中芯国际不代工，华为干脆暂时放下手机业务，转战别的领域。购买国产48纳米光刻机，足以让华为不被卡脖子。

光刻机难不难确实很难，对企业来说是真难，主要成本控制问题。如果成本控制不再考虑中，光刻机难不难，回答是给几年时间完全能弥补上技术的差距。国家一旦调动各方力量，二三年基本上能接近荷兰ASML厂家的水平。

感谢您的阅读！【上海微电子已经成功研究了22nm光刻机，这在国内市场到底什么水平】

我们知道现在的上海微电子已经在使用90nm光刻机，这种光刻机和现在市面上的7nm EUV光刻机有很大的差异，虽然我们也知道上海微电子确实是优势的，毕竟在全球光刻机市场只有荷兰、美国、日本，如今我国也拥有“入场券”。

有人说现在的上海微电子已经有了22nm的光刻机工艺，又有人说是28nm工艺的光刻机，这方面确实让我们很诧异，到底上海微电子是28还是22nm？

其实，我们虽然有很多所谓的消息，但是我们知道这些消息大多数是以讹传讹，不可轻信。但是，不可否认的上海微电子确实是我国目前在光刻机领域不可或缺的部分。

在我国虽然有“翻新”光刻机的企业，但是像上海微电子这样的企业几乎没有，从某种程度上，上海微电子确实给了我们很多的启示。

我们也期待在光刻机领域它有所成绩，虽然现在看来，这种成绩还离国际社会的ASML的光刻机有一段距离，但是却不容忽略它的成绩。

至于到底所谓的上海微电子是不是真正的会打造出22nm工艺制程的光刻机，已经不在重要，重要的是我们在迈出了一个重要的步伐。